專題討論19：口腔醫學研究之進展
Research Progress in Oral Medicine

S19-5
人類牙釉質經低濃度釋氟貼片處理後之成分及表面分析
Depth Profile and Surface Analysis of Human Enamel after Application of a Low-concentrated Fluoride Strip
李伯訓
臺灣大學牙醫專業學院口腔生物科學研究所
　　口腔健康的維護為國人身體健康中重要的一環，而齲齒又為口腔疾病中影響最大者，台灣每年花費龐大的醫療資源在齲齒的治療及其後續衍生的問題，若能從齲齒預防著手，將有助於節省醫療成本，並提昇國人之整體健康，由於台灣飲水沒有加氟，目前可以預防的方法包括含氟漱口水、氟膠、氟錠、小窩裂溝封填劑、玻璃離子體修復等，雖然不管是從復形材料緩慢釋出或是特別設計之緩慢釋氟裝置，皆有助於促進再礦化和降低齲齒發生，但是使用材料修復之前，必須先在牙齒上製備窩洞，這會耗損齒質，且隨著材料置換的次數增加，窩洞也會愈磨愈大。至於氟膠，有研究指出使用數百ppm濃度的氟膠，十分鐘後濃度降為1 ppm，30分鐘後則降為0.1 ppm，意味著它很快就會被唾液所稀釋，且它和氟錠一樣容易被食入身體內，必須小心使用以免造成氟中毒。含氟漱口水則在小孩的使用配合度不高。因此本實驗的主要目的是研發齲齒預防用之釋氟薄膜，利用包覆牙齒及局部釋氟之特性，以減少身體攝入氟的含量，達到抑制牙齒去礦化和增進牙齒再礦化的功效。

　　經釋氟薄膜處理後的牙釉質，以X射線光電子能譜儀、二次離子質譜儀以及離子層析儀的分析，結果顯示經過8小時的釋氟貼片貼附後，牙釉質表面的氟濃度可達飽和，在最表面形成的產物為氟化鈣，氟膠塗佈24小時後，影響深度在健全牙釉質約為7.2 μm，而在經過去礦化程序的牙釉質較深，約為17.6 μm。此外，經過釋氟貼片處理過後的牙釉質其抑制酸性環境去礦化作用的能力隨著釋氟貼片貼附時間的增加有顯著提升，成正向關係。釋氟貼片也能增加牙釉質再礦化的能力，但效果和貼片貼附時間無明顯關係。